仪器名称: 溅射系统 
 制 造 厂: 美国Comptech公司 
型号规格: 2440-C 
主要技术指标: 专用于沉积Al2O3,射频功率2kw/10kw,
        沉积速率约2μm/小时;
        可沉积3英吋片子12片,可溅射刻蚀,最
        大功率1KW。 
  应用范围: 沉积Al2O3薄膜

 

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