仪器名称: LB设备 
制 造 厂: 芬兰KSV公司 
型号规格: KVS5000 
主要附件: 英文Win98/2000下执行,软件控制程度可对压膜、提膜、参数 
主要技术指标: 沉积速率:0.1-85mm/min;
        Optimal Speed Range:0.2-170mm/min;
        Barrier Speed:0.01-400mm/min;
        可进行有机分子膜的制备,以0.1-85mm/min
        的提膜速度在最大100*100*100mm的基底上制
        备有序排布的纳米级分子薄膜和阵列。 
应用范围: 适用制备有机单分子层或多层有机膜,可进行其它纳米材料的成膜性实验研究。

 

地址:上海市东川路800号  上海交通大学电子信息与电气工程学院
Copyright ©  薄膜与微细技术教育部重点实验室   版权所有   沪交ICP备20111131

Powered by PageAdmin CMS