仪器名称: 反应离子刻蚀机(Reactive Ion Etcher) 
制 造 厂: 法国Alcatel 公司 
型号规格: Nextral 100 
主要附件: Windows窗口型界面系统,实现刻蚀过程中反应气体流量、压力、功率的自动控制 
主要技术指标: 硅、PMMA、玻璃等材料的刻蚀,用于加工
        沟槽等微结构;
        深度在1~100um;
        可选用SF6、CHF3、O2等作为刻蚀气体。  
应用范围: 硅、PMMA、玻璃等材料的刻蚀。

 

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