仪器名称: 直流磁控溅射系统 
制 造 厂: 德国LH公司 
型号规格: Z600 
主要附件: 有进样室、溅射室、缷样室,可连续溅射;
       计算机在线实时控制 
主要技术指标: 极限真空度:5*10-7 mbar;
    直流溅射功率:15KW;
    最大沉积面积:488*488mm;
    厚度均匀度:5%;
    三个溅射靶,靶材488*488mm,可独立和复合溅射;
    真空系统采用冷泵,无污染,成膜质量高。 
  应用范围: 溅射面积大,适合大面积、批量型薄膜制备;各种金属薄膜材料制备。

 

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