仪器名称: 超高真空薄膜溅射机 
制 造 厂: 日本ULVAC株式会社 
型号规格: MPS-3000-HC5 
主要附件: 准备室和成膜室2个腔室 
主要技术指标: 极限真空度:准备室6.7*10-5 Pa;
        成膜室6.7*10-7 Pa;
        溅射速率2~4nm/min;
        膜厚分布:±3%;
        靶材质数量:5个;
        基板直径3″,靶材2″;
        具有直流和射频溅射功能。 
应用范围: 纳米厚度巨磁阻磁性多层膜材料及磁性隧道结材料;纳米厚度非磁性金色属薄膜材料;纳米厚度氧化物、氮化物薄膜。

 

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