仪器名称: 光刻机 
制 造 厂: 德国Karl Suss 
型号规格: MA6/BA6 
主要附件: 光强表 
主要技术指标: 双面曝光;
        线宽1μm;
        对准精度1μm;
        4″掩膜版。 
应用范围: 掩膜版曝光;可实现接触式和间隙曝光;可进行间歇曝光。

 

地址:上海市东川路800号  上海交通大学电子信息与电气工程学院
Copyright ©  薄膜与微细技术教育部重点实验室   版权所有   沪交ICP备20111131

Powered by PageAdmin CMS