仪器名称: 溅射系统 
制 造 厂: 日本ANEIVA公司 
型号规格: SPF-312 
主要技术指标: 本底真空 8*10-7 Torr
        射频磁控溅射系统,可溅射绝缘靶、金
        属靶等。可按比例通入O2, N2气体进行反
        应溅射,制备氧化物、氮化物膜 

应用范围: 现有靶材包括:金、铜、镍、铁镍、铅、钛等金属靶;SiO2绝缘靶

 

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